中國媒體炮轟通信專家：煽動民族情緒，用戰略模糊掩蓋真實差距，這是在捧殺中國光刻機產業

散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

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前沿導讀

據觀察者網旗下心智觀察所發布的內容表示：

ASML在11月的中國進博會上，發布了兩款先進的光刻機產品：TWINSCAN XT：260、TWINSCAN NXT：870B。其中最受關注的就是XT：260，這是ASML推出的首款應用于封裝領域的先進光刻機產品。

在此之前，我國通信專家項立剛在個人平臺發文指出：光刻機是拿來生產產品的，而不是用來展示的。相較于把產品的微觀模型放在展會上展覽，還不如隱藏信息，在生產線上測試更重要。

項立剛的言論引起了熱議，媒體認為其說法是選擇性解讀和逆向推理，這種言論反映出了當前輿論場中一個危險的傾向：用民族情緒和想象力代替技術理性，用“戰略模糊”掩蓋真實差距。

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技術差距

光刻機作為人類制造的頂級工業設備，其在復雜度、功能特性、產業鏈融合均有著極高的標準。

項立剛認為，中國企業用5年的時間，已經將一個系統級別的半導體產業鏈補全。但是由于美國的封鎖限制，讓中國企業在開發自主設備的時候非常低調，哪怕是有了自主先進的光刻機，也不會公布出來，而是直接在生產線上運行。這種能力完全是震驚世界的，不需要用一個光刻機展示出來宣示。

對于他的這種說法言論，與媒體評價的“用民族情緒和想象力代替技術理性，用戰略模糊來掩蓋真實差距”不謀而合。

我國去年公布的國產氟化氬光刻機，其分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，屬于干式技術設備。這與ASML在上一屆進博會上展示的NXT：1470光刻機配置類似，但是NXT：1470的分辨率和套刻精度更高，在技術和效率上面優于我國的設備。

而NXT：1470在ASML整個產品系列中，屬于中等產品。在此之上還有浸潤式DUV光刻機、EUV光刻機、高數值孔徑EUV光刻機。

并且光刻機屬于消費類工業設備，其最終目的是投入市場制造產品，從而創造經濟價值。

光刻機從制造到最終投入生產線運行，至少需要三年時間。前兩年完成的是各零部件的開發，然后運送到買家的工廠當中，剩下一年需要進行系統調試。確認完全沒有問題的情況下，這臺設備才會量產芯片。

完成了設備的開發，只能代表成功了一半。技術調試的成功與否，決定了另一半成功率。

光刻機需要安放在高度潔凈的室內，對于室內的空氣干凈度、地基穩定性、電力水源的輸送都有著極其高的標準。哪怕是溫度出現0.001度的變化、設備出現幾納米的位置偏移，都可能影響到光刻機的制造精度。

先進光刻機的模塊零部件達到數十萬個，涉及到全球5000家以上的供應商。單是一個光學系統，其所需的零部件總數就在40萬個以上。

據產業專家指出，光刻機的制造商用，并不只是簡單的組裝，需要各個供應鏈之間相配合。

國產光刻機想要實現長足的產業影響力，必須與本土供應商深度融合，這不是一朝一夕就能成功的。缺乏本土客戶的長期驗證和反饋，即便國產光刻機制造出來，也難以形成真正意義上的產業化能力。

03

警惕捧殺

項立剛引用ASML公司的信息分析稱，未來ASML的中國市場份額會大幅度下降，這是因為中國的國產光刻機正在逐漸放量，ASML面臨著市場沖擊，我們正在用國產設備替換ASML的進口設備。

但是據ASML官方發布的2025年第三季度財報顯示，中國大陸區占據了ASML總銷售規模的42%，較上一個季度的27%增速明顯。

公司CEO克里斯托弗·富凱在財報大會上面對外表示，中國客戶的需求已基本得到滿足，未來ASML的中國大陸區業務將會回歸到20%左右的正常水平。

ASML首席財務官羅杰·達森在2023年第四季度及全年的財報大會上面表示，2023年的中國區業務強勁，ASML給中國的成熟工廠交付了許多光刻機設備，這些設備大多都是2022年之前的訂單，符合美國以及荷蘭的出口條例。

但ASML先進的浸潤式光刻機，NXT:1970i 、NXT:1980i以及更高端的設備，無法出口給部分敏感的中國工廠。對于其他不太敏感的中國工廠，出口以上設備需要向荷蘭申請出口許可。

連續多年大量采購的行動，說明的是中國企業為保證國內芯片的規模而囤積設備。如果我們的國產光刻機真的具備替代ASML的實力，那么國內的企業就沒必要再花費巨額資源去購買進口設備。

中國先進芯片的技術突破，也并不能說明是國產光刻機的突破。

荷蘭半導體觀察者馬克·海金克曾在個人作品中指出，中國企業的手中有上百臺ASML的浸潤式光刻機，就算被封鎖EUV，中國企業還可以憑借著浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術制造7nm芯片。

這種方法雖然可以暫時解決7nm芯片的供應問題，但是其能效、經濟效益、良品率均大打折扣，而且還會快速面臨著技術瓶頸。

媒體將這種現存的問題形容為“戰略模糊”，技術發展講究實事求是，你需要先正確認識差距，才能有追趕的機會。如果是沉浸在我們已經突破，但是我們不說的輿論體系下，這是有悖于事實的。

中國半導體產業鏈已經取得了長足的技術進步，但是想要在短短幾年內完成國產高端芯片的自主化全棧制造，難度極大，尤其是在最前端的光刻機領域，中國設備距外國設備的差距存在顯著的代差。這個差距是客觀存在的，承認差距是理性，夸大成就是自欺。

參考資料： 光刻機是拿來用的不是拿來展的_風聞 真相比情緒重要，誤讀中國光刻機正在傷害真正的進步 https://user.guancha.cn/main/content?id=1532529 https://www.guancha.cn/xinzhiguanchasuo/2025_11_20_797635.shtml

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