日本芯片公司社長：追求獨(dú)立自主，所有零件自己造，最終面臨失敗

前沿導(dǎo)讀

據(jù)《日經(jīng)BP》新聞指出， 日本曾經(jīng)是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的霸主，并且統(tǒng)治了全球光刻機(jī)市場，但是如今卻輸給了荷蘭的ASML。甚至日本最先進(jìn)的半導(dǎo)體公司Rapidus，都已經(jīng)引進(jìn)ASML的EUV光刻機(jī)來制造先進(jìn)芯片。

Rapidus公司的社長小池淳義在接受日經(jīng)新聞?dòng)浾卟稍L時(shí)指出：什么都想自己做，追求在技術(shù)上面的獨(dú)立自主，這是日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)失敗的主要原因。瞄準(zhǔn)尖端芯片技術(shù)的Rapidus，未來將會(huì)與美國的IBM、IMEC（比利時(shí)微電子研究中心）等機(jī)構(gòu)密切合作，掌握技術(shù)主導(dǎo)權(quán)。

參考資料：
阿斯麥為何能超越尼康和佳能？

• https://mp.weixin.qq.com/s/Pg14NLCRxTvcRf3s8GZOkg

獨(dú)立自主

在上世紀(jì)90年代，尼康和佳能是全球光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的霸主。而1984年才成立的荷蘭ASML，還只是一個(gè)因?yàn)楸荒腹撅w利浦嫌棄花錢太多，從而獨(dú)立出來的新光刻機(jī)企業(yè)。

在尼康和佳能發(fā)展起來之前，美國的GCA和珀金埃爾默是光刻機(jī)市場的初代霸主。

但是美國光刻機(jī)企業(yè)仗著自家產(chǎn)品的市場占比較高，開始慢待客戶，甚至還會(huì)優(yōu)先滿足于美國本土客戶，然后才輪到其他海外企業(yè)。哪怕是海外企業(yè)采購光刻機(jī)的訂單時(shí)間比美國本土企業(yè)早，GCA和珀金埃爾默也會(huì)優(yōu)先給美國企業(yè)供貨。

在這種情況下，日本政府推出了超大規(guī)模集成電路計(jì)劃（VLSI），聯(lián)合尼康、佳能、索尼、東芝、NEC、富士、東京電子等日本頂尖的科技企業(yè)發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)，提升日本半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的競爭力。

尼康和佳能承擔(dān)光刻機(jī)項(xiàng)目的研發(fā)，本身這兩家企業(yè)就是傳統(tǒng)的光學(xué)巨頭，擁有制造光學(xué)鏡頭及工業(yè)設(shè)備的技術(shù)工廠，再加上日本的東京應(yīng)化、富士公司所制造的配套材料，尼康率先完成了光刻機(jī)的整機(jī)研發(fā)并交付給東芝等企業(yè)制造芯片，佳能緊隨其后。

而且尼康等企業(yè)注重客戶服務(wù)，在售賣光刻機(jī)的同時(shí)還附贈(zèng)工程師的服務(wù)包，提供部分技術(shù)支持。這讓尼康開始在國際市場上生根發(fā)芽，那些被美國光刻機(jī)企業(yè)冷落的國際客戶紛紛開始轉(zhuǎn)向采購尼康的光刻機(jī)設(shè)備。

隨著尼康市場份額的不斷擴(kuò)大，美國光刻機(jī)企業(yè)的市場份額隨之下滑，再加上美國GCA等企業(yè)常年狂妄傲慢的態(tài)度，讓其忽略了先進(jìn)技術(shù)的研發(fā)，最終將光刻機(jī)市場拱手讓給了尼康和佳能。

整合技術(shù)

從2000年開始，ASML異軍突起，憑借著浸潤式技術(shù)開始搶奪尼康和佳能的光刻機(jī)市場。

尼康和佳能這種傳統(tǒng)的巨頭企業(yè)，都擁有獨(dú)立開發(fā)并制造光學(xué)鏡頭的能力，并且其光刻機(jī)的大部分零件均來自于日本本土的供應(yīng)鏈體系。

反觀ASML，其光刻機(jī)的大部分零件需要依賴于全球供應(yīng)鏈的支持，并且ASML也沒有尼康、佳能那種獨(dú)立制造光刻機(jī)鏡頭的能力，完全就是一個(gè)方案的整合商。

就是這么一個(gè)技術(shù)方案的整合商，卻成為了如今光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)尖端技術(shù)的唯一選手。

ASML的看家技術(shù)就兩個(gè)，一個(gè)是對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，一個(gè)是整合技術(shù)。

2002年，臺(tái)積電工程師林本堅(jiān)開發(fā)了浸潤式技術(shù)，在鏡頭和光刻膠之間加入超純水，193nm的波長打入水中形成折射，波長縮短至134nm。此時(shí)的尼康正在通過提升鏡頭的硬件素質(zhì)，試圖將193nm的波長縮短至157nm，制造更先進(jìn)的芯片。

林本堅(jiān)帶著浸潤式技術(shù)尋求合作，尼康已經(jīng)在157nm波長上投入太多資源，直接拒絕了林本堅(jiān)的方案。而ASML選擇與林本堅(jiān)合作，開發(fā)出了后來劃時(shí)代的浸潤式光刻機(jī)。

而真正讓ASML通吃市場的產(chǎn)品，則是擁有雙工作臺(tái)（代號(hào)NXT）的“TWINSCAN”系列光刻機(jī)。

TWINSCAN NXT：1950i，這是ASML第一款支持雙工作臺(tái)的浸潤式光刻機(jī)。

該設(shè)備可以并行處理兩枚晶圓，一邊進(jìn)行曝光，另一邊進(jìn)行測量，并且ASML的晶圓對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)很強(qiáng)大，這直接提升了光刻機(jī)的制造效率。ASML后續(xù)制造的EUV光刻機(jī)，也是采用了這種技術(shù)體系。

在制造浸潤式光刻機(jī)的同時(shí)，ASML還與美國達(dá)成合作，共同推進(jìn)EUV技術(shù)的落地。

并且ASML的供應(yīng)鏈全都是世界頂級(jí)的存在，德國蔡司是ASML全球唯一的鏡頭及曝光系統(tǒng)供應(yīng)商。盡管在某些關(guān)鍵技術(shù)上依賴于單一供應(yīng)商的風(fēng)險(xiǎn)很大，但是除德國蔡司之外，其他企業(yè)并沒有能力制造出足以商業(yè)化的整套EUV曝光系統(tǒng)。

荷蘭半導(dǎo)體觀察者馬克·海金克指出，當(dāng)ASML將EUV設(shè)備成功量產(chǎn)之后，尼康在EUV領(lǐng)域的勝算已經(jīng)幾乎沒有了。其他競爭對(duì)手可以嘗試挑戰(zhàn)ASML的EUV技術(shù)，但是想要跟ASML一樣量產(chǎn)商用，目前還未看到有競爭者成功過。