“全世界都在研發光刻技術，不針對中國”

【文/觀察者網 張菁娟】

全球高端光刻技術博弈持續升溫，針對中國光刻技術自主研發的進程，荷蘭駐韓大使范德弗利特（Peter van der Vliet）在接受采訪時表示，全球多地均在布局下一代光刻技術研發，技術角逐是行業發展常態，不存在單獨針對中國的情況。他同時表示，荷韓芯片合作不僅局限于三星電子、SK海力士和荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）。

得益于人工智能產業的爆發式增長，全球高端存儲芯片需求持續走高，SK海力士今年股價大幅上漲。今年3月，SK海力士敲定一筆價值69億歐元的設備采購大單。

《日經亞洲》24日援引范德弗利特的話稱，“除阿斯麥外，荷蘭還有多家頂尖芯片前后道設備廠商，不少科研機構也與三星電子、SK海力士保持著良好合作關系”。

他表示，若僅聚焦阿斯麥一家企業，便無法看清兩國的合作全貌。他介紹道，除大眾熟知的阿斯麥外，荷蘭多家細分領域龍頭企業深耕韓國市場多年。其中，阿斯麥分屬不同主體的阿斯麥國際半導體設備公司，在等離子體增強原子層沉積技術領域處于領先地位，該技術可逐層在芯片上沉積超薄薄膜。這家企業在韓國京畿道華城市設有研發與生產基地，去年12月完成廠區擴建項目，項目投資達1362億韓元。

與此同時，荷蘭半導體設備供應商貝思半導體工業公司、荷蘭應用科學研究組織等也與韓國芯片企業維系著密切合作。

范德弗利特認為，兩國可攜手研發下一代芯片制造技術，并看好光子技術成為新合作方向。該技術以光信號替代電信號，實現芯片數據傳輸與運算處理。“光子技術具備能耗更低等優勢，而低功耗也是半導體行業的核心追求。不過這項技術仍需進一步研發，才能實現商業化落地。”

報道稱，AI算力的爆發式激增，使得芯片能耗問題成為行業研發核心難題。荷蘭依托積淀深厚的精密光學工程技術，在光子技術領域積累了技術儲備，目前正聚焦AI基礎設施所需的新一代芯片互聯技術攻關。

據報道，除產業企業合作外，兩國半導體領域的學術與官方研發合作也持續擴容。荷蘭埃因霍溫理工大學、代爾夫特理工大學均開設韓國半導體專業留學生交換項目，兩國也圍繞精密測量、先進封裝技術開展政府層面聯合研發磋商。

范德弗利特 《日經亞洲》

值得注意的是，復雜的全球地緣局勢與供應鏈波動，為韓荷半導體合作帶來諸多不確定性?；魻柲酒澓{航運受阻、國際油價上漲等問題，持續推高全球海陸空貨運成本，三星電子此前已公開表示，物流成本攀升大幅增加了企業的生產運營壓力。

在范德弗利特看來，各類風險挑戰也凸顯出深化雙邊合作的必要性。“兩國在經濟韌性、安全保障、關鍵原材料、可再生能源、半導體以及國防領域均有著廣泛合作。”

報道稱，兩國高層均高度認可雙邊半導體合作的戰略價值。上周，韓國總統李在明與荷蘭首相耶滕（Rob Jetten）首次通電話時，著重談及相關合作。李在明事后在社交平臺發文表示，韓荷兩國半導體合作成果豐碩、潛力巨大，“雙方持續深化協作，將有力穩固全球半導體供應鏈”。

此外，自去年起，荷韓兩國啟用半導體供應鏈聯合預警機制，可實時監測供應鏈潛在風險并協同應對，監測范圍涵蓋出口管制政策以及電池負極等關鍵原材料。

阿麥斯作為全球領先的光刻機巨頭，目前中國也正全力自研相關設備，降低對外技術依存度，規避美國出口管制帶來的風險。

當被問及中國自研是否會撼動阿斯麥高端設備壟斷地位時，范德弗利特稱這是全球科技競爭的正常態勢。

范德弗利特說：“全球多個地區都在布局光刻技術研發，這是科技發展競爭中的常態，因此，我不會單獨針對中國，各地都在角逐下一代設備與技術?！?/p>

值得一提的是，美國國會4月提出法案，要求荷蘭和日本等盟友遵守美國出口管制措施，防止中國獲取先進芯片制造設備。這項法案在現行極紫外光刻機（EUV）對華全面禁售的基礎上，將浸沒式深紫外光刻機（DUV）等設備也納入全面限制。

阿斯麥首席執行官富凱20日參加在比利時安特衛普舉行的科技活動時呼吁，針對芯片制造設備輸華的出口，制定更為一致的規則。他表示，阿斯麥目前向中國出售的DUV設備，本身就是基于2015年的技術，為八代之前的芯片技術。如果進一步收緊限制，只會加速中國自主研發替代設備的步伐。

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