半導體生產過程中產生的廢水,具有成分復雜、腐蝕性強、水質波動大、污染物濃度高等特點,一直是工業廢水治理領域的重點與難點。
作為專注工業廢水治理的環保企業,恒大興業憑借成熟技術與豐富經驗,為某大型半導體企業量身定制廢水處理方案,以分質精準治理工藝,實現3000m3/d廢水穩定達標處理,為企業環保合規與可持續發展保駕護航。
廢水特征與治理需求
項目廢水主要分為研磨廢水、含氟廢水、有機廢水、酸堿廢水四大類,各類廢水水質差異顯著、治理難度突出:
研磨廢水:懸浮物濃度高,SS最高可達1000mg/L,易堵塞管道與設備;
含氟廢水:氟化物濃度高達800mg/L,酸性強,深度除氟要求嚴苛;
有機廢水:COD最高1500mg/L,氨氮、總氮含量高,需高效生化降解;
酸堿廢水:pH波動范圍1.0~13.0,水質沖擊負荷大,中和處理難度高。
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處理后出水需滿足園區污水處理廠納管排放要求,確保長期穩定合規。
核心處理工藝與技術優勢
結合廢水特性,采用分質收集預處理 + 綜合深度處理 + 污泥廢氣協同治理 + 全流程智能監控的完整工藝路線,確保治理效果:
研磨廢水:采用一體化反應沉淀工藝,快速去除高濃度懸浮物,保障出水SS達標;
含氟廢水:通過精準pH調節、鈣鹽深度沉淀,配合氟離子在線控制,高效去除氟化物;
有機廢水:一體化反應搭配好氧生化處理,高效降解COD、氨氮、總氮,提升處理效率;
酸堿廢水:中和調節與均質混合結合,平衡水質酸堿度,降低后續處理負荷;
配套保障:配套污泥高壓隔膜壓濾脫水系統、廢氣收集處理系統,同時配置 pH、氟離子、流量、液位等在線監測儀表,實現24小時智能管控,異常情況快速響應。
整套系統選用防腐、耐酸堿的優質設備,適配半導體廢水腐蝕特性,運行穩定、故障率低、運維成本可控。
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系統投用后,出水水質持續穩定滿足納管標準,COD≤300mg/L、總氮≤45mg/L,氟化物、氨氮、SS等關鍵指標均達標排放。
既滿足企業生產發展需求,又嚴守環保底線,大幅降低企業環保風險,提升企業綠色品牌形象。
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